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射頻等離子清洗機 RPD-170
  • 射頻等離子清洗機 RPD-170

射頻等離子清洗機 RPD-170

高產能的等離子清洗機

【設備功能及應用】

主要用于芯片貼裝、引線鍵合、底部膠填充、模塑等半導體封裝工藝前的清洗和表面活化,有效去除封裝物料表面的有機污染物和氧化物,提高界面粘接和鍵合性能,大幅優化封裝良率。配置大容量腔室和先進的電極及結構設計,在高效生產的同時保證了良好的清洗均勻性。


【產品特點】


優異的清洗效果以及可靠的性能

最多可裝載16個彈夾 

具有超強真空性能的真空泵機組

占地面積小的真空泵內置設計

先進的電極設計確保高均勻性清洗

易用的圖形化操作界面


【技術參數】

等離子頻率

13.56MHz(射頻)

等離子功率

標配600W(1000W可選)

電極數量

2

腔內尺寸

W580mm x D580mm x H530mm (約170L)

腔室容量

最多16個彈夾料盒

真空泵

真空泵機組(油泵+增壓泵),內置

腔室真空

優于5Pa

真空規

皮拉尼規或電容薄膜規

質量流量計

標配1個(最多可選3個),流量100sccm

控制系統

Windows觸摸屏工控機+PLC控制,支持手動和自動操作,支持工藝程序編輯/存儲/運行,支持工藝數據自動記錄和顯示,支持連接MES系統

外形尺寸

W1200mm x D1000mm x H1850mm(不含三色燈)

重量

約800Kg

電源

380V, 3P+N+PE, 50Hz, 6kW

破真空氣體

N2,0.1-0.15MPa

工藝氣體

Ar、Ar/H2混合氣、O2等,0.15-0.2MPa

壓縮空氣

0.5-0.6MPa



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